2021年,上海微電子交付28nm光刻機,我國主流的半導體晶片可以實現“自主可控”,利用雙工作臺進行多次曝光的原理,有生產7nm製程的潛力,將在短時間內解決國產晶片的製造難題。
28nm光刻機是否靠譜?
2021年,上海微電子交付28nm光刻機是否靠譜呢?畢竟上海微當前最先進的光刻機是90nm,2007年實現了交付,時隔13年,才實現了28nm工藝,是什麼原因造成的呢?
首先要說清楚的是,
上海微電子也僅僅是系統整合商,關鍵零部件來自於外來,而不是自己生產
。荷蘭ASML最先進的EUV光刻機,90%的關鍵零部件來自於外來,美國的計量裝置和光源、德國的鏡頭和精密儀器、瑞典的軸承等等,
最麻煩的是這些精密儀器和配件對我國是禁運的
。也就是說,上海微電子要造出28nm光刻機,只能等待國內供應鏈的成熟。
目前,中微半導體推出了5nm製程蝕刻機,ArF光刻膠實現了國產化,北京科益虹源光電突破了關鍵的光源系統,國望光學突破了鏡頭工藝,華卓精科突破了浸入式雙工作臺等等,上海微電子負責控制系統和總裝。
與荷蘭ASML的差距
目前,
荷蘭ASML最先進的EUV光刻機,可以生產5nm製程工藝的晶片
,下半年釋出的麒麟1020處理器、蘋果A14、驍龍875處理器將會採用5nm製程工藝,進一步提升了手機處理器的效能,並且降低了功耗。
上海微電子的28nm光刻機,至少還有10多年的差距,而這麼大的差距,短時間也是無法彌補的。
原因1
:西方國家有一個《瓦森納協定》,最先進、最尖端的技術對我國是禁運的,最先進的光刻機集成了全球最先進的技術,由於受到了技術封鎖,我國無法進口這些裝置和技術。
原因2
:像高階的EUV光刻機,我們是很難模仿的,荷蘭ASML將數百家公司的技術整合在一起,有80000多個零件,非常複雜。不僅如此,來自德國蔡司的鏡頭是專門為ASML生產的,世界上沒有一個國家的公司可以模仿,而且EUV光刻機裝有感測器,一旦檢測到異常發生,就會響起警報。
總之,上海微電子雖然突破了28nm製程工藝,然而距離荷蘭ASML的EUV光刻機還有很大的差距。雖然,我國有強大的製造業,模仿能力也超強,然而在技術經驗積累、人才儲備、配套零部件方面還遠遠不足。
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